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一、關(guān)于型號的說明
LP–36A(36表征盤徑914mm,A表征氣缸帶有加壓系統(tǒng))
LP系列單面研磨拋光機(jī),主要用于單面工件精密研磨拋光加工,能夠滿足工件的快速維修及加工要求,達(dá)到良好的光潔度及平面度。(典型應(yīng)用:光學(xué)晶體、光纖、模具鋼、導(dǎo)光板、閥片、飛機(jī)零部件、機(jī)械密封、藍(lán)寶石、陶瓷、不銹鋼等)
二 、設(shè)備概述
LP系列研磨拋光機(jī)是我司為電子、精密五金、汽車零件等領(lǐng)域精心研發(fā),量身定做的專用設(shè)備,兼?zhèn)洳僮黛`活,精確度高,設(shè)計合理,高性價比等優(yōu)點(diǎn)于一身。
1、拋光過程是磨盤與被拋光表面相互磨削過程,LP研磨拋光機(jī)修面裝置獨(dú)特的夾具滑輪設(shè)置,使工件位移的同時,將磨盤端面凹凸點(diǎn)校準(zhǔn)修平,這不僅消除了被拋光表面可能出現(xiàn)的環(huán)形折光環(huán),而且降低了磨盤端面平整度修整難度。
2 、被拋光表面中部和邊緣與磨盤端面接觸幾率得到均衡,使工件各處受熱均勻;再者,被拋光表面的大部分都有移出磨盤端面的時候,改善工件的散熱條件,減小工件拋光過程產(chǎn)生的熱變形。
3 、縮短表面變形狀態(tài)不同的工件同時拋光所需的時間差異。由于被拋光表面自適應(yīng)與磨盤端面接觸吻合,無需用修整磨輪端面的方法來適應(yīng)被拋光表面,加之工件散熱條件的改善,使得同一臺研磨拋光設(shè)備(用同一個磨盤)同時拋光兩片大面積PCD制品得以實(shí)現(xiàn)。
磨盤可根據(jù)客戶實(shí)際情況選配(鑄鐵、樹脂鐵盤、樹脂銅盤、樹脂錫盤、純錫合金、陶瓷盤、拋光墊等),另可根據(jù)特殊工況開適當(dāng)溝槽。
三、選配項(xiàng)目
單色光機(jī)及平晶、平面度量規(guī)、金剛石液電子分配系統(tǒng)、陶瓷修正環(huán)、CMP拋光液循環(huán)系統(tǒng)
四、設(shè)備技術(shù)性能指標(biāo)
型 號 | LP-28(A) | LP-36(A) | LP-48(A) |
研磨盤直徑 | Φ710mm | Φ914mm | Φ1200mm |
工作環(huán)內(nèi)徑 | 3-275mm | 3-368mm | 3-480mm |
馬達(dá)功率 | 2.2kw | 7.5kw | 7.5kw |
輸入總電源 | 380V | 380V | 380V |
轉(zhuǎn) 數(shù) | 10-120RPM | 5-80RPM | 5-80RPM |
控制方式 | 觸屏控制 | 觸屏控制 | 觸屏控制 |
壓重 | 氣缸壓重(或壓重塊壓重) | 氣缸壓重(或壓重塊壓重) | 氣缸壓重(或壓重塊壓重) |
設(shè)備尺寸 | 1280*1080*1750(A) | 1700*1540*2110(A) | 1920*1800*1010 |
設(shè)備重量 | 1000kg | 1500kg | 1900kg |
另可根據(jù)客戶的實(shí)際工況及需求進(jìn)行定制。
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